佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造 5 nm 芯片。
佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。
这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆,从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。
佳能表示会继续改进和发展这套系统,未来有望用于生产 2nm 芯片。
纳米印刷(Nanoprinted lithography)通常被认为是光学光刻的低成本替代品,SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试,不过潜在客户提出投诉,认为产品缺陷率较高,最后选择放弃。